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小型等離子裝置
更新時(shí)間：2025-06-01
訪問(wèn)量：2017
廠商性質(zhì)：代理商
生產(chǎn)地址：
簡(jiǎn)要描述：
PiPi小型等離子裝置介紹高頻輸出 200W,反應(yīng)腔 W130×D130mm 經(jīng)濟(jì)型、較適合于研究開(kāi)發(fā)用小型等離子清洗機(jī)。 特點(diǎn) ● 經(jīng)濟(jì)型等離子清洗機(jī)● 簡(jiǎn)單的等離子處理操作● 等離子模式為RIE模式
PiPi小型等離子裝置介紹
高頻輸出 200W,反應(yīng)腔 W130×D130mm。
經(jīng)濟(jì)型、適合于研究開(kāi)發(fā)用小型等離子清洗機(jī)。
特點(diǎn)
● 經(jīng)濟(jì)型等離子清洗機(jī)
● 簡(jiǎn)單的等離子處理操作
● 等離子模式為RIE模式
用途
● 去除有機(jī)物
● 樹(shù)脂/膜等表面改質(zhì)
● 改善粘接效果
● 提高親水性
● 去除金屬氧化物
● 蝕刻
等離子為氣體發(fā)生電離狀態(tài)，形成帶有正電的離子及帶有負(fù)電的電子狀態(tài)。等離子為帶有高能量、反應(yīng)性非常高的狀態(tài)，其容易與物質(zhì)表面進(jìn)行反應(yīng)的特性被廣泛使用。
等離子RIE（Reactive Ion Etching 方式）
RIE是去除物體表面的有機(jī)物污垢，同時(shí)去除無(wú)機(jī)物的合適的清洗方式。
RIE方式為加速離子層中的陽(yáng)離子，沖擊污染表面的物理性清洗方式。
PiPi小型等離子裝置規(guī)格
型號(hào) | PM100 |
等離子方式 | RIE模式 |
電極構(gòu)造 | 平行平板式 |
高頻輸出 | Max200W |
頻率 | 13.56MHz |
電極尺寸 | W130×D130mm |
外形尺寸 | W438×D520×H565mm |
反應(yīng)氣體 | Ar |
填充氣體 | N2或干燥空氣 |
反應(yīng)氣體流量計(jì) | 流量計(jì) |
控制方式 | 程序控制 |
電源 | 單相100V |
真空泵（選配） | 油泵 135L/min（50Hz） |
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